MES, Peter, 2020. Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz : Kommentar. 5., neubearbeitete Auflage. München: C.H.Beck.
Elsevier - Harvard (with titles)Mes, P., 2020. Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz : Kommentar, 5., neubearbeitete Auflage. ed, Beck-online. C.H.Beck, München.
American Psychological Association 7th editionMes, P. (ca. 2020). Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz : Kommentar [Cd]. In Beck-online (5., neubearbeitete Auflage). C.H.Beck.
Springer - Basic (author-date)Mes P (2020) Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz : Kommentar, 5., neubearbeitete Auflage. C.H.Beck, München
Juristische Zitierweise (Stüber) (Deutsch)Mes, Peter, Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz : Kommentar, 5., neubearbeitete Auflage , München 2020.
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